Oluremi C. Onabanjo is een curator en geleerde op het gebied van fotografie en Afrikaanse kunst, gevestigd in New York City. Als voormalig directeur tentoonstellingen en collecties van The Walther Collection heeft ze tentoonstellingen georganiseerd in Europa, Noord-Amerika en Afrika. In 2017 was ze co-curator van Recent Histories: Contemporary African Photography, en redigeerde de bijbehorende publicatie (Steidl), die op de shortlist stond voor een ICP Infinity Award in Critical Writing and Research (2018). Onabanjo geeft internationaal lezingen over fotografie en de curatoriële praktijk, en haar schrijven is verschenen in Aperture, The New Yorker, The Photobook Review, Tate Etc. en publicaties ondersteund door onder andere The Museum of Modern Art, RISD Museum, en The Studio Museum in Harlem.
Een 2020 Andy Warhol Foundation Arts Writers Grantee, Onabanjo is een promovendus in kunstgeschiedenis aan Columbia University. Ze heeft een MSc in Visual, Material, and Museum Anthropology van de Universiteit van Oxford, en een BA in African Studies van Columbia University.